Das Halbleiterunternehmen fertigt in Zukunft Chips mit einer Strukturgröße zwischen 65 und 90 Nanometern. Für die Produkte dieser Größenordnung sind die Anforderungen an das Reinstwasser besonders hoch. Je kleiner der Nanometer-Bereich der herzustellenden Produkte, umso höher die erforderliche Reinheit des Wasser für den Herstellungsprozess. Die Qualität des Reinstwassers hat in der Halbleiterindustrie stets einen entscheidenden Einfluss auf die Produktqualität und die Effizienz des Fertigungsprozesses. Die Anlage entspricht den neuesten UPW-Standards und gewährleistet die Einhaltung der UPW-Spezifikationen von Ionen im ppt-Bereich sowie den niedrigsten Grenzwerten von Partikeln und des TOC.
Mit Hilfe mehrerer Aufbereitungsstufen wird das Wasser auf die erforderliche Qualität gebracht. Für die Vorbehandlung des Rohwassers kommen ein Multi-Media-Filter und ein Aktivkohlefilter zum Einsatz. Im Prozess-Schritt „Make-up“ wird das vorgereinigte Wasser mit Hilfe der Prozesskombination aus Umkehrosmose und Elektrodeionisation von unerwünschten Partikeln, organischen und anorganischen Verunreinigungen und Ionen befreit. Ein spezieller „Bor-Polisher“ wird zur Einhaltung der Bor-Spezifikation eingesetzt. Abschließend wird das aufbereitete Wasser in einer letzten Reinigungsstufe, dem sogenannte „Polishing“-Loop, endgereinigt.
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Die Hager + Elsässer GmbH aus Stuttgart zählt zu den Marktführern von UPW- und Abwasseranlagen für die Mikroelektronik- und Halbleiterindustrie in Russland. In dieser für die Wasseraufbereitung sehr anspruchsvollen Industrie bietet das Unternehmen Anlagenkonzepte für den gesamten Wasserkreislauf an – von der Reinstwasseraufbereitung bis hin zu Recycling-, Reclaim- und Abwassersystemen.